相关裁判及公开来源
-
苏州赛某电子科技有限公司诉深圳裕某科技有限公司等侵害集成电路布图设计专有权纠纷案
裁判案号：（2019）最高法知民终490号
法院：最高人民法院
本条案号依据官方指导案例或案例摘要列示，主案审级按公开材料标注；其他审级与关联案件分别说明。
查看公开来源 ↗
指导性案例编号、案例库入库编号与裁判案号分别列示。
快速结论
登记确定权利基础的重要信息，但保护范围与独创性不能只凭证书结论；图样、样品及具体主张需要对应。
事实与裁判结果
赛某公司于2012年申请登记涉案锂电池保护芯片布图设计。其主张准某公司未经许可复制、销售实质相同的芯片，裕某公司代开发票，相关股东亦应担责。诉讼期间准某公司被注销。深圳中院于2019年6月19日以（2015）深中法知民初字第1106号判决裕某公司赔偿经济损失50万元，户某欢、黄某东、黄某亮对该金额承担连带责任，驳回其余请求。最高法于2020年10月16日以（2019）最高法知民终490号判决维持。指导案例218。
法院认为
法院区分登记、范围及独创性。登记用于确定保护对象，不是以公开完整设计换取保护；不能因部分内容未对公众公开，就一律排除。保护范围一般根据登记复制件、图样确定；对于图样不能清楚识别的细节，可以在样品与登记材料一致的前提下，通过剖片还原。
独创性则需说明该三维配置由自己设计、创作时不是公认常规设计。权利人应先合理说明或初步证明具体独创区域，再由被诉方提出相反证据，法院综合评价，不能要求权利人穷尽世界全部设计以证明独创性。保护对象也不能停留在功能思想上；主张局部区域时，应对应能够相对独立执行电子功能的具体元件和线路配置。
审判规则总结
- 指明登记对象与实际芯片、图样之间的对应关系。
- 提出可审理的独创性部分，而不是泛称整片芯片不同。
- 对反证具体回应，区分功能方案与布图表达。
笔者观点与实务建议
笔者建议芯片企业在流片、登记和诉讼三个阶段使用一致的版本标识。版图文件、工艺层信息和成品样品应能够互相对应，避免诉讼中提交另一代产品却无法解释变更。
准备侵权主张时，可制作独创区域索引，说明布局选择及其与常规设计的差异，再安排被诉芯片解剖、成像及比对。注册证、功能相同和芯片型号相近，都不能分别替代这套对应关系。企业还应保留委托设计和流片合同，以说明真正的创作主体与权利归属。
对独创性的说明可以围绕设计任务、可选方案和具体布局选择展开，不必把全部商业研发成果公开写入网页。敏感版图在诉讼中应采用相应保密措施，但保密不能成为不说明保护对象的理由。
比对报告应交代工艺层、图像对齐和误差来源，避免对不同缩放比例的图片直接判断复制。第三方机构的技术意见有助于查明事实，但不能替代法院对独创性、保护范围及侵权要件的法律评价。
规则时点与实务要点
2026年修订条例已于10月15日施行，第二十二至二十四条明确要求提交独创性声明，指明区域、设计要点及功能等。第694号公告的过渡办法原则上按登记申请日在10月15日前后区分适用，并设有特定业务例外。因此，不能仅因今天发生诉讼就把全部新登记要求倒加于历史登记，也不能再把新条例描述为尚未施行。修订条例、过渡办法。