相关裁判及公开来源
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上海晶某电子科技有限公司诉国家知识产权局、第三人苏州赛某电子科技股份有限公司集成电路布图设计撤销行政纠纷案
裁判案号：（2024）最高法知行终469号
法院：最高人民法院
最高人民法院二审行政判决全文；针对布图设计专有权撤销程序审查决定，区别于侵权行政裁决。
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指导性案例编号、案例库入库编号与裁判案号分别列示。
快速结论
芯片功能、空间配置和未公开工艺应分别确定保护对象；登记一项权利不能包办全部技术保护。
先把技术成果拆成可以证明的对象
同一芯片可能同时包含电路功能、元件及互连配置、制造工艺、测试参数和软件。专利通常围绕符合授权条件的技术方案，布图设计围绕特定空间配置，商业秘密围绕未公开且符合保护条件的信息。企业应从研发成果清单出发，为每项成果列出载体、形成时间、贡献人员及对外公开计划，避免简单选择“最便宜的证书”代替保护策略。
从官方裁判看裁判规则
在锂电池保护芯片登记撤销案中，一审案号为（2022）京73行初2947号，最高人民法院二审案号为（2024）最高法知行终469号。该案针对登记撤销程序的审查决定，不是侵权行政裁决。最高人民法院区分逻辑电路与物理配置：功能上的可替换性，不能直接证明相应物理配置属于常规设计。对晶体管类型、深阱、器件位置及连接层次的调整，应结合具体配置及其证据评价。这里不存在“电路能申请专利，布图就必然独创”的推导关系，也不存在“专利未授权，布图就当然不受保护”的推导关系。
企业可以建立三张对应表
三张表分别处理成果、时间和合同。成果表可从以下对应关系开始，再按产品逐项细化：
| 成果对象 | 可评估的保护路径 | 应保留的关键材料 | 应核对的时间或权限 |
|---|---|---|---|
| 电路功能及实现技术方案 | 符合条件的专利申请 | 技术交底、实验记录、贡献人员与版本 | 对外公开时间、申请地域与权属 |
| 元件及互连的三维配置 | 布图设计登记 | 复制件或图样、独创区域和设计形成记录 | 创作完成、全球首次商用及登记申请时间 |
| 未公开工艺、调试参数等信息 | 符合条件的商业秘密保护 | 信息范围、访问权限、保密措施与接触记录 | 公开状态、客户交付权限与持续保密能力 |
公开与时间表应记录论文、展会、送样、流片和量产节点；资产与合同表应记录职务研发、外包设计、采购模块和合作开发的归属与许可。交叉引用同一项目编号，可以查出“有登记证书却缺少外包权利约定”等问题。表格是资产管理建议，具体权利是否成立仍需分别审查。
保护选择还受业务目标影响。如果希望让竞争者能够学习某个方案而以许可方式使用，可以考虑适当公开；如果关键优势在难以逆向获取的工艺参数，持续保密可能更符合经营需求。是否能够保持秘密、是否容易从成品识别侵权、申请成本及生命周期，都应纳入评估。这个选择需要技术人员、经营者与法律团队共同完成。
审判规则与办理建议
审判规则的核心是不同权利保护不同客体，不能通过一种权利无限延伸到另一种权利的对象。办理建议是先完成成果定位，再确定具体申请方案。投资或并购核查应同时检查登记范围、时间证据、合同链条和公开状态，而不能只统计证书数量。若暂时无法说明某项技术的来源，应先补齐过程记录，再对外承诺其独立性。
截至2026年10月20日，修订后的《集成电路布图设计保护条例》已于10月15日施行。其第六条要求独立智力成果及创作时非常规，第七条排除思想、处理过程、操作方法和数学概念等本身，第十一条规定复制及商业利用专有权。第694号公告以申请日区分新旧条例并设特别过渡规则，不能把旧案申请文件要求直接用于新申请；新实施细则公告载明10月30日施行，核对时尚未到该日期。上述制度变化也不意味着登记一项布图就取得整颗芯片功能、工艺和软件的全部权利。
公开来源
最高人民法院关于常规设计判断的案例分析、二审行政判决、修订后的保护条例、第694号过渡办法、实施细则施行日期公告。核对日期：2026-10-20。