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集成电路布图设计

布图设计侵权比对:芯片整体相似度与独创区域分析

作者观点与研究成果。事实、现行规则与个人判断分层呈现。

相关裁判及公开来源

  • 钜泉光电科技(上海)股份有限公司与深圳市锐能微科技有限公司、上海雅创电子零件有限公司侵害集成电路布图设计专有权纠纷案

    裁判案号:(2014)沪高民三(知)终字第12号

    法院:上海市高级人民法院

    上海市高级人民法院二审民事判决;最高人民法院知识产权法庭公开案例材料案号栏直接列明。本案被诉方是深圳市锐能微科技有限公司。

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指导性案例编号、案例库入库编号与裁判案号分别列示。

快速结论

先识别独创配置,再比对复制与商业利用;面积和相似比例应服务于具体保护范围判断。

百分比不是完整的侵权结论

芯片可以包含大量通用模块与少量具有独创配置的区域。整芯片相似度较低,可能掩盖对核心独创区域的直接复制;相似度较高,也可能主要来自共同工艺限制和常规模块。因此,报告必须说明分母是什么、比对哪些层、是否排除了不受保护部分,以及相同安排的来源。

上海市高级人民法院(2014)沪高民三(知)终字第12号民事判决,涉及钜泉光电与锐能微等之间的电能计量芯片争议。最高人民法院公开材料指出,权利人已就特定区域的独创性提出初步证据,反驳材料仍需对应具体配置,不能只以其面积占整芯片比例小否认保护。该案也不能被概括为“任何相似局部都受保护”:如果主张的是由常规元素组成的整体独创,就应说明整体组合为何非常规,不能任意截取常规片段再倒推其独创性。

比对材料应能够让对方复核

建议先提供登记图样与实际产品之间的版本对应,再展示完整层图及争议区域放大图。坐标、比例、方向、图像处理方法和去层过程应清楚记录,防止不同视角造成错误重叠。每个保护点要描述器件与连接关系,指出其中哪些元素来自常规结构、哪些组合体现具体选择。

现行《集成电路布图设计保护条例》第六条区分独创部分与常规设计的整体组合,第十一条覆盖对全部或任何具有独创性部分的复制,第三十四条以登记复制件或图样确定保护对象,独创性声明用于解释。小面积不是自动免责条件,图像相似也不是自动侵权条件。可将比对报告组织为以下对应表:

待查事项 需要形成的对应关系
保护范围 登记图样、独创性声明、争议层次及区域坐标
独创性 独立创作或非常规组合的材料,以及具体常规反证
相同或实质相似 相应层图、元件位置及互连关系,说明比例和处理方法
实施行为与规模 复制、制造、商业利用主体及产品批次、数量

被诉方抗辩时,可以针对常规性、公开来源、独立创作或实际不相同分别准备证据。几种抗辩可以并行,却不能用同一句“行业都这样”替代证明。对方图样与自己产品不是同一层级时,应先要求解释比对基础。专家辅助人可以帮助澄清技术事实,但不应将法律保护范围留给图片软件自动决定。

从技术比对连接到行为责任

即使配置相似,仍要确定谁实施复制、谁进行了受限制的商业利用、各方是否具备相应责任条件。拆片鉴定解决技术关系,采购合同解决来源,销售记录解决利用规模,这些证据回答不同问题。把它们并列为“证明侵权”的附件而不注明各自用途,容易使案件论证断裂。

赔偿也不宜直接用争议区域的面积占比乘以整颗芯片利润。本案公开材料将节省研发成本、缩短研发时间等纳入损害评价,最终维持经济损失及合理费用合计320万元;其他小区域案件的赔偿应结合技术贡献、侵权行为和证据分别测算。

侵权停止措施也要具体。可以讨论停止使用哪一版布局、是否能够替换独创区域、库存如何处理及整改后的核对方式,但不能以经营便利为由免除已成立的责任。权利人也应避免把争议区域保护扩张为全部芯片功能。对双方而言,准确说明保护点及其证据,比单纯争论相似度高低更接近真实审判问题。

公开来源

最高人民法院公开的电能计量芯片案例材料、修订后的保护条例。核对日期:2026-10-20。

参考来源

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