快速结论
合法购得芯片不等于取得复制其布图设计的许可。评价、分析、研究与商业复制应区分；基于分析创作的布局仍要满足相应独创性条件。单纯更换标记、调整少量走线或宣称自主设计，不能替代创作过程和技术比对证据。
规则要点
芯片拆解、反向工程、兼容替换研发及布图设计侵权争议。
先将行为按阶段区分
采购样品、拆解观察、绘制分析报告、开发新版布局和投入销售，是不同阶段。样品合法来源只能说明取得样品的基础，不能自动授权后续复制。为分析而复制与直接把原配置用于量产，需要从真实目的和过程判断。企业在研发立项中写“反向工程”不等于法律例外已成立，仍应说明样品用途、分析方法及后续自己的设计贡献。
原创改动不能只看数量
某些工艺或模块布局是本领域常规设计，不能把常规重合作为复制独创部分的全部证明。但整体组合可能具有独创性，简单挪动少数单元也不当然使布局独立。将修改数量当作唯一评价标准，容易忽视受保护部分及配置关系。建议把每次设计修改的技术理由、负责人、输入资料和输出版本保存下来，使自主创作能够由连续证据说明。
技术比对要能重现
不同图像的缩放、旋转、工艺层和样品制备都会影响视觉判断，应交代对齐方法与误差。权利人需说明自己主张的独创布局对应登记材料的哪里；被诉方主张常规设计或独立研发，也需提供可核验资料。双方可以借助技术人员或鉴定，但技术意见不能代替法院对权利范围和例外条件的法律判断。某款芯片具有相同功能，单独不足以说明空间布局被复制。
研发管理与对外说法
可设置独立设计记录与访问权限，避免把竞争者文件混进内部源文件库；采用隔离研发也是管理建议，不能宣传成绝对免责方式。发生投诉后应先固定版本、来源和销量，不要删除分析记录或倒补设计日志。新条例施行前后应查行为时期及过渡安排，引用历史判决时也须保留原适用法背景。是否能够继续量产，应结合具体权利、比对结果和授权方案决定。
建议处理路径
- 核对样品来源及取得方式
- 区分分析研究与后续商业行为
- 保留独立设计版本和技术决策
- 逐层识别独创部分及重合
- 核查新旧条例及行为发生时间
建议准备的材料
- 采购和拆解分析记录
- 设计源文件、版本及评审记录
- 比对图、工艺层信息和流片资料
适用说明
评价分析例外不是商业复制免责证；技术意见须说明尺度、工艺和图像对齐，不能仅凭芯片功能相同认定复制。
三类例外不能混同
修订条例第三十七条列出三类可以不经许可、不付费的行为：个人目的或仅为评价、分析、研究、教学等目的的复制；基于该评价分析创作具有独创性的布图设计；对自己独立创作、虽与他人相同的布图设计进行复制或商业利用。应证明落入哪一类，不是只要有一份拆解报告就可量产照搬的配置。
第三十八条还区分了合法投放市场后的再次商业利用与重新复制。权利人或经许可者售出的原芯片再次销售，不等于许可买方制造同样布局的新芯片。新条例已于2026年10月15日施行，登记申请及其产生的权利须按第694号办法审查申请日和特殊业务；具体侵权问题还要核对权利依据及行为发生时适用的规则。
当前依据
布图设计保护条例关于评价分析、独立创作、复制及商业利用的规定；新条例及过渡办法。
公开来源
规则来源检索日期：2026年10月11日。材料整理和处理建议属于本站实务分析，具体请求仍须结合完整事实审查。
办理要点
- 按公布、施行和过渡日期安排办理节点，逐阶段标注适用规范。
办理要点按事实、主体、时间与规范分别组织，并形成对应的资料清单和程序节点。
来源
- https://www.cnipa.gov.cn/art/2022/1/14/art_2644_166615.html
- https://www.cnipa.gov.cn/art/2026/8/3/art_106_207524.html
- https://www.cnipa.gov.cn/art/2026/9/30/art_74_208391.html